半導(dǎo)體生產(chǎn)為何需要應(yīng)用超純水設(shè)備?
超純水是一種將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的高純度水,一般電阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)的我們才稱之為超純水。對(duì)于半導(dǎo)體行業(yè)而言,超純水是確保其高效生產(chǎn)的基石之一,所以我們才說(shuō)半導(dǎo)體生產(chǎn)離不開(kāi)超純水設(shè)備。
在半導(dǎo)體生產(chǎn)環(huán)節(jié)中,清洗步驟占據(jù)了整個(gè)生產(chǎn)總步驟的三分之一,可以說(shuō)整個(gè)清洗過(guò)程離不開(kāi)超純水設(shè)備。應(yīng)用專業(yè)的超純水設(shè)備即可產(chǎn)出高品質(zhì)的超純水,如今半導(dǎo)體行業(yè)常用的超純水設(shè)備核心工藝為反滲透工藝、EDI系統(tǒng)、混床工藝,這樣生產(chǎn)出的超純水電阻率可達(dá)18 MΩ*cm(25℃),具有環(huán)保、經(jīng)濟(jì)、發(fā)展?jié)摿薮蟮戎T多優(yōu)勢(shì)。
半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用的超純水設(shè)備核心采用的是曲線微導(dǎo)力技術(shù),應(yīng)用膜法技術(shù),在拋光段采用進(jìn)口拋光樹(shù)脂以及自主研發(fā)的除硼專用樹(shù)脂,在保證系統(tǒng)高回收率的同時(shí),有效提高系統(tǒng)的產(chǎn)水水質(zhì)。設(shè)備中應(yīng)用的EDI系統(tǒng)是一種將離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)相結(jié)合的純水制造技術(shù),無(wú)需酸堿再生,是一種新型的脫鹽方式,該系統(tǒng)的應(yīng)用幫助超純水設(shè)備降低了運(yùn)行成本。該設(shè)備可連續(xù)穩(wěn)定地制備超純水,不會(huì)因?yàn)闃?shù)脂再生而停止運(yùn)行,設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)比較嚴(yán)密,所以其占地面積非常小,可以為企業(yè)節(jié)省大量空間,屬于實(shí)用型超純水設(shè)備。
綜上所述,半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展離不開(kāi)超純水設(shè)備的應(yīng)用,該設(shè)備深受半導(dǎo)體行業(yè)的青睞,在電子芯片、集成電路及封裝、晶圓、科研、航空航天等領(lǐng)域中應(yīng)用良多。
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